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复审委组织召开集成电路布图设计专有权保护前沿法律问题研讨会

发布时间:2012-06-14

6月7日至8日,复审委组织召开集成电路布图设计专有权保护前沿法律问题研讨会,来自我局条法司、初审及流程管理部、复审委以及法院系统、相关企业、代理机构等单位的代表及有关专家学者,共计70余人参加了此次研讨会。

 6月7日至8日,复审委组织召开集成电路布图设计专有权保护前沿法律问题研讨会,来自我局条法司、初审及流程管理部、复审委以及法院系统、相关企业、代理机构等单位的代表及有关专家学者,共计70余人参加了此次研讨会。

 

  

 

 复审委副主任王霄蕙在致辞中表示,自2001年《集成电路布图设计保护条例》实施以来,我国集成电路布图设计专有权保护工作取得显著成就,但目前对于涉及集成电路布图设计的诸多前沿法律问题的认识和研究还有待进一步深入和细化。她希望通过举办此次研讨会,为各方提供交流平台,大家畅所欲言,提出自己的真知灼见。会上,各位发言人分别针对集成电路布图设计的独创性判断、公认常规设计的认定、首次商业利用、举证责任、技术鉴定标准、保密信息层的法律保护等主题作了剖析透彻的发言,与会代表围绕上述议题,从各自的工作实践出发,对集成电路布图设计确权和侵权程序中存在的相关法律疑难问题进行了广泛和深入的探讨,并达成一定共识。

 

  

 

 此次研讨会对解决目前集成电路布图设计确权和撤销程序中遇到的一些突出问题提出了合理化建议,有利于相关确权和侵权纠纷审理工作的顺利进行,并促进了集成电路布图设计专有权保护制度的进一步完善。 (复审委电学申诉一处朱芳芳/供稿詹靖康/摄影)